전자 - Laminar

전자

LCTR® 반응기가 MoS₂ 또는 기타 탄소 기반 재료 생산을 어떻게 향상시킬 수 있는지.

적용 분야

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저희는 층류 테일러 유동의 힘을 활용하는 차세대 화학 반응기 시스템을 개발합니다.

적용 분야 개요

전자 분야 첨단 기능성 재료를 위한 정밀 제어

라미나의 LCTR® 반응기 시스템은 디스플레이, 반도체, 에너지 장치 등에 사용되는 핵심 전자 재료의 연속적이고 확장 가능하며 고도로 제어된 생산을 가능하게 해. 층류 테일러 유동을 활용하여, LCTR®은 전자 제조에서 모두 중요한 요소인 균일한 입자 크기, 수율 및 재현성 측면에서 기존 배치 시스템보다 탁월한 이점을 제공해. 양자점부터 OLED 중간체까지, 우리 기술은 차세대 전자 재료를 지원해.

전자 재료에 LCTR®을 선택해야 하는 이유?

01. 지르코니아 비드 – 에멀젼 중합

결과: LCTR®은 더 빠르고, 더 균일하며, 더 높은 수율의 비드 생산을 달성해.

분류	LCTR	진동 밀	균질기
장비 형태
비드 크기(㎛)	40~60	50~130	20~100
구형도 (%)	95	89	85
입자 크기 분포	1.2	3.6	4.2
수율 (%)	95	83	78
입자 형태

* 이 연구 결과는 한국화학연구원 류병환 박사의 연구 결과에서 발췌한 거야.

02. 양자점 (코어-쉘 공정)

InP/ZnS 합성

• 방출 파장: 505, 540, 605 nm
• FWHM (선폭): 46–48 nm
• 양자 수율: >50%

CdSe/ZnS 합성

• 방출 파장: 510, 620 nm
• FWHM: 26–35 nm
• 양자 수율: >80%

03. 촉매 (코어-쉘 공정)

반응:

Cu(NO₃)₂ + NaOH + SiO₂ → Cu(OH)₂-SiO₂
Cu(OH)₂-SiO₂ →△ CuO-SiO₂

분류	배치	LCTR
분류	1000rpm,85℃	1000rpm,85℃	600rpm,25℃	300rpm,25℃
DMS 전환율 (%)	42.5	76.1	53.1	34.8
입자 크기 (nm)	28	13	24	30

* 이 연구 결과는 한국화학연구원 황동원 박사의 연구 결과에서 발췌한 거야.

04. 금속 나노입자 – 캐핑 합성

실험 조건:
• 교반 속도: 400–1000 rpm
• 온도: 100–350°C
• 반응 시간: 1–5분

분류	실험 1	실험 2	실험 3
반응 온도 (℃)	130	155	125
교반 속도 (rpm)	600	600	800
크기 균일성 (A₁/A_t) a)	0.6	0.1	0.8
평균 입자 크기 (㎚)	100	100	5
비저항 (μΩ·㎝)	9	60	50

* 이 연구 결과는 한국화학연구원 황동원 박사의 연구 결과에서 발췌한 거야.

a) 1에 가까울수록 입자 크기 분포가 더 균일해 (A1: 가장 작은 입자 크기 영역의 합, At: 모든 피크 영역의 합)

05. OLED 발광 재료 – 냉각 결정화

분류	승화기	LCTR®
장비 형태
방법	건식	습식
순도 (%)	99.95	99.99
공정 유형	배치	연속
온도(℃)	270~280	상온
압력 (Pa)	진공	대기압
시간 (h)	12~24	1
비용 (10USD/kg)	10,000	3,000